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HWN-P1500納米激光直寫系統是專門為科研團隊和加工平臺設計的小范圍多功能光刻系統，根據壓電平臺的移動范圍，分為P100、P200、P500、P1000、P1500等不同型號，具有結構緊湊、操作方...
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HWN-L2新型納米激光直寫系統是一款大面積、高精度、可套刻、超衍射極限加工的激光直寫系統，可用于晶圓尺寸的大面積微納加工，適用于各種微納結構和器件制造、小批量微納器件生產等。該系列包括L50、L10...
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HWN-L1新型納米激光直寫系統是一款大面積、高精度、可套刻、超衍射極限加工的激光直寫系統，可用于晶圓尺寸的大面積微納加工，適用于各種微納結構和器件制造、小批量微納器件生產等。該系列包括L50、L10...
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HWN-P1500-1500新型納米激光直寫系統是專門為科研團隊和加工平臺設計的小范圍多功能光刻系統，根據壓電平臺的移動范圍，分為P100、P200、P500、P1000、P1500等不同型號，具有結...
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公司簡介:蘇州華維納納米科技有限公司是在"蘇州工業園區創業人才項目"的支持下，于2011年注冊成立的高科技創新型公司，公司由歸國和國內的高層次人才組成，公司設有博士后流動站。公司曾先后獲得國家科技部（國家重大大科學儀器設備開發專項)和姑蘇、江蘇省雙創人才、以及蘇州x-nano大科學裝置等項目支持，并于2012年6月完成首輪風險融資，并成功研發出擁有自主知識產權的三大系列新型納米激光光刻系統，2015年被認定為高新技術企業。公司近年來，不斷加大研發力度，已經定型了LDW-P和LDW-L兩大系列新型激光直寫設備，實現了激光直寫設備的更新換代。該新型激光直寫采用全新的技術路徑提高加工分辨率，一舉突破突衍射極限的限制，成功實現納米尺度加工；突破了目前激光直寫僅能用于有機光刻膠的現狀，可以廣泛應用于各種受體材料，極大地擴展了激光直寫設備的應用范圍。
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激光直寫設備是一種在材料科學領域廣泛應用的工藝試驗儀器，其主要功能和特點可以歸納如下：一、定義與原理激光直寫設備利用強度可變的激光束對基片表面的抗蝕材料實施變劑量曝光，顯影后在抗蝕層表面形成所需的浮雕輪廓。這一技術結合了計算機控制與微細加工技術，為衍射光學元件（DOE）的設計和制作提供了極大的靈活性，制作精度可以達到亞微米量級。二、應用領域1.微電子制造：激光直寫設備在微電子制造領域具有重要地位，可用于制造微小電子零件、硅片和集成電路等微型電子元件。通過高精度的激光束掃描，直...
查看詳細近期，為紀念《中國激光》建刊50周年，該刊特設立了激光加工專題。華維納創始人應邀在該刊物上發表了題為“具有超衍射和多受體的新型納秒激光直寫研究進展”的特邀文章，介紹了新型激光直寫在超分辨加工和多受體加工方面取得的最新研究進展，以及華維納在新型激光直寫設備的產業化情況，受到了廣大激光加工領域從業人員的廣泛關注，詳見文章鏈接https://www.chem17.com/st567305/info_673560.html。華維納的新型激光直寫設備已為廣大科研人員的前沿研究和各種微納...
查看詳細在科技日新月異的今天，納米光電子設備以其的微觀世界魅力，正悄然改變著信息處理、能源轉換乃至生物醫藥等多個領域的面貌。這些基于納米技術構建的光電子器件，不僅體積小巧、更以其高效能、低能耗的特點，著未來技術的發展方向。本文將深入探討納米光電子設備的使用方法與關鍵注意事項，助您安全、高效地駕馭這一前沿科技的瑰寶。一、納米光電子設備概述納米光電子設備，是利用納米材料或結構實現光與電之間轉換、傳輸與調控的一類設備。它們包括但不限于量子點太陽能電池、納米激光器、光子晶體管等，廣泛應用于光...
查看詳細在當今科技日新月異的時代，納米光電子設備正逐步成為連接微觀世界與宏觀應用的重要橋梁。這一領域不僅融合了納米技術的精細操控與光電子技術的高效傳輸特性，更在推動信息技術、通信技術、生物醫學等多個方面展現出潛力與活力。一、多元化發展納米光電子設備，顧名思義，是指在納米尺度上利用光子與電子的相互作用，實現光信號與電信號轉換、傳輸及處理的一類高科技產品。隨著納米技術的不斷突破，這些設備已經實現了從理論研究到實際應用的跨越式發展。從微小的納米激光器、光子晶體傳感器，到復雜的納米光子集成芯...
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